pvd镀膜工艺及参数
PVD(物理气相沉积)镀膜工艺是一种在真空条件下,采用物理方法将材料源(固体或液体)表面气化成气态原子或分子,或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程...
2024-05-21 查看详情18913268389汤生
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2024-05-21 查看详情PVD(物理气相沉积)镀膜工艺是一种表面处理技术,它利用高能电子束、离子束、电弧等能量源,将金属材料或化合物材料加热至高温,使其蒸发成气体,然后通过真空技术将气...
2024-05-20 查看详情真空镀膜设备在我国经济中有哪些作用?真空镀膜设备是镀膜工业上的一个重要部分,若没先进高效的镀膜机器,就没有现代化的镀膜工业。 长期以来,因为国民经济的不断提高...
2024-05-17 查看详情真空镀膜设备在现代工业生产中扮演着至关重要的角色,因此,对其进行日常的维护与故障排除显得尤为重要。下面将详细介绍真空镀膜设备的日常维护与故障排除方法。 一、日...
2024-05-15 查看详情物理气相沉积(PVD)是一种先进的镀膜技术,通过物理方法将固态材料转化为蒸气或等离子体状态,然后在基片上形成薄膜。与化学气相沉积(CVD)不同,PVD不依赖于化...
2024-05-13 查看详情189-1326-8389 在线咨询
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