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pvd镀膜工艺及参数

PVD（物理气相沉积）镀膜工艺是一种在真空条件下，采用物理方法将材料源（固体或液体）表面气化成气态原子或分子，或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程...
2024-05-21 查看详情
PVD镀膜工艺与气体应用

PVD（物理气相沉积）镀膜工艺是一种表面处理技术，它利用高能电子束、离子束、电弧等能量源，将金属材料或化合物材料加热至高温，使其蒸发成气体，然后通过真空技术将气...
2024-05-20 查看详情
真空镀膜新应用给手机穿上“雨衣”

真空镀膜设备在我国经济中有哪些作用？真空镀膜设备是镀膜工业上的一个重要部分，若没先进高效的镀膜机器，就没有现代化的镀膜工业。　　长期以来，因为国民经济的不断提高...
2024-05-17 查看详情
昆山PVD加工周期

PVD（Physical Vapor Deposition）加工周期的长短取决于多种因素，如加工设备的性能、待加工材料的性质、所需涂层的种类和厚度、以及加工过程...
2024-05-16 查看详情
真空镀膜设备的日常维护与故障排除方法

真空镀膜设备在现代工业生产中扮演着至关重要的角色，因此，对其进行日常的维护与故障排除显得尤为重要。下面将详细介绍真空镀膜设备的日常维护与故障排除方法。　　一、日...
2024-05-15 查看详情
实验室到工业：PVD镀膜的科学基础、主要方法与实际应用

物理气相沉积（PVD）是一种先进的镀膜技术，通过物理方法将固态材料转化为蒸气或等离子体状态，然后在基片上形成薄膜。与化学气相沉积（CVD）不同，PVD不依赖于化...
2024-05-13 查看详情