物理气相沉积PVD真空泵 

物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。。

PVD的真空系统由真空腔室、分子泵、螺杆加罗茨真空机组、气动阀门及气管组成。进出腔室组成低真空系统、隔离室+缓冲室+溅射室组成的高真空系统。

汉钟IPH系列半导体真空泵，已在各大晶圆工厂应用如：中芯国际、华虹宏力、华润上华、台积电、力积电(力晶/巨晶)、稳懋、全新、Intel、TI、Linear、三星。