各种沉积手段的混合运用也是上海PVD技术的最新进展之一，经过多种粒子源的组合运用，可以消除单一沉积手段的缺点，获得良好的效果，如在离子镀中，采用脉冲激光作为蒸发源，而后对蒸气进行等离子体化，加上偏压，这样既可以提高沉积效率，又可以改善沉积粒子的活性，提高沉积能量。在蒸镀中，采用热丝电子发射，使蒸气原子离化，就可以对基片加上偏压，获得具有轰击效果的沉积膜层。

真空阴极电弧和磁控溅射技术组合沉积技术，也是近年来实际应用到工业生产中的一种复合技术。等离子体的引入，可以同时对溅射中的原子进行离化；同时，溅射又可以辅助电弧沉积的稳定性。

由于应用对象的不断扩展，PVD处理的材料由原来的刀具等硬质合金材料不断向中低合金钢、模县钢，乃至有色金属等材料类型扩展。为保证PVD表面处理后被处理件整体的性能不下降，降低PVD处理温度，在较低的温度下获得性能优良的沉积层，已成为PVD技术研究的一个主要问题。

磁控溅射是PVD技术中低温沉积最有效的方法。磁控溅射时，电子被暗场罩或专门附加的阳极吸收掉，得到基体的温度比传统溅射的要低，通过一些特殊的手段可以使基体的温度降至接近室温，可使塑料或其他温度敏感材料作为基体进行沉积处理。1998年Teel Coating Ltd.提出了在低温下采用磁控溅射沉积高质量TiN、TiCN镀层的技术，基体温度可降至低于70℃，从而扩大了类似镀层可能应用的范围。英国的Loughborough大学近年来成功地在室温条件下使磁控溅射过程中的基体温度从350～500℃降低到150℃左右，并成功地将TiN、CrN涂层用于人工牙齿模具表面和铜焊接触头表面，提高了其使用寿命5～10倍。可以看出，低温沉积方法及工艺研究是非常有意义的，也是很有前途的。